Вакумско премазивање се односи на загревање и испаравање извора испаравања у вакууму или распршивање уз убрзано јонско бомбардовање, и наношење истог на површину супстрата да би се формирао једнослојни или вишеслојни филм.Који је принцип вакуумског премаза?Затим ће нам га представити уредник РСМ.
1. Вакуумско испаравање премаза
Облагање испаравањем захтева да растојање између молекула паре или атома од извора испаравања и супстрата који се облаже треба бити мањи од просечног слободног пута молекула заосталих гасова у просторији за облагање, како би се обезбедило да молекули паре у испаравање може доћи до површине подлоге без судара.Уверите се да је филм чист и чврст, а испаравање неће оксидирати.
2. Вакуумски премаз за распршивање
У вакууму, када се убрзани јони сударе са чврстим материјалом, с једне стране долази до оштећења кристала, са друге стране судара се са атомима који чине кристал, и на крају атомима или молекулима на површини чврсте материје. прскати напоље.Распршени материјал се наноси на подлогу да би се формирао танак филм, који се назива вакуумско распршивање.Постоји много метода распршивања, међу којима је најраније распршивање диода.Према различитим катодним циљевима, може се поделити на једносмерну (ДЦ) и високофреквентну (РФ).Број атома који су распршени ударом јона у циљну површину назива се брзина распршивања.Са великом брзином прскања, брзина формирања филма је велика.Брзина распршивања је повезана са енергијом и врстом јона и врстом циљаног материјала.Уопштено говорећи, брзина распршивања расте са повећањем енергије људских јона, а брзина распршивања племенитих метала је већа.
Време поста: 14. јул 2022