Разлике између премаза испаравањем и премаза за распршивање

Као што сви знамо, методе које се обично користе у вакуумском премазивању су вакуумска транспирација и јонско распршивање.Која је разлика између транспирационог премаза и премаза за распршивање Многиљуди имају таква питања.Хајде да поделимо са вама разлику између транспирационог премаза и премаза за распршивање

Вакум транспирациони филм загрева податке који се транспирују на фиксну температуру помоћу отпорног загревања или електронског снопа и ласерског гранатирања у окружењу са степеном вакуума не мањим од 10-2Па, тако да енергија топлотне вибрације молекула или атоми у подацима премашују енергију везивања површине, тако да се многи молекули или атоми транспирују или повећавају и директно их депонују на подлогу да би се формирао филм.Премаз за јонско распршивање користи високо отпорно кретање позитивних јона генерисаних гасним пражњењем под дејством електричног поља да бомбардује мету као катоду, тако да атоми или молекули у мети побегну и таложе се на површини обложеног радног предмета како би се формирали потребан филм.

Најчешће коришћена метода вакуумског транспирационог премаза је метода отпорног загревања.Његове предности су једноставна структура извора грејања, ниска цена и практичан рад.Његови недостаци су што није погодан за ватросталне метале и медије отпорне на високе температуре.Грејање електронским снопом и ласерско грејање могу превазићи недостатке отпорног грејања.У грејању електронским снопом, фокусирани електронски сноп се користи за директно загревање података који се налазе, а кинетичка енергија електронског снопа постаје топлотна енергија за транспирацију података.Ласерско грејање користи ласер велике снаге као извор грејања, али због високе цене ласера ​​велике снаге, може се користити само у малом броју истраживачких лабораторија.

Вештина прскања се разликује од вештине вакуумске транспирације.Распршивање се односи на феномен да наелектрисане честице бомбардују назад на површину (мету) тела, тако да се чврсти атоми или молекули емитују са површине.Већина емитованих честица је атомска, што се често назива распршеним атомима.Распршене честице које се користе за гранатирање циљева могу бити електрони, јони или неутралне честице.Пошто је јони лако добити потребну кинетичку енергију под електричним пољем, јони се углавном бирају као честице за љуштење.

Процес распршивања се заснива на усијаном пражњењу, то јест, јони који прскају долазе из гасног пражњења.Различите вештине прскања имају различите методе сјајног пражњења.ДЦ распршивање диода користи ДЦ сјајно пражњење;Триодно распршивање је усијано пражњење подржано врућом катодом;РФ распршивање користи РФ сјајно пражњење;Магнетронско распршивање је сјајно пражњење које контролише прстенасто магнетно поље.

У поређењу са вакуумским транспирационим премазом, премаз за распршивање има много предности.Ако се било која супстанца може распршити, посебно елементи и једињења са високом тачком топљења и ниским притиском паре;Адхезија између распршеног филма и подлоге је добра;Висока густина филма;Дебљина филма се може контролисати и поновљивост је добра.Недостатак је што је опрема сложена и захтева високонапонске уређаје.

Поред тога, комбинација методе транспирације и методе распршивања је јонско полагање.Предности ове методе су јака адхезија између филма и подлоге, висока стопа таложења и велика густина филма.