Разлика између мете за галванизацију и мете за распршивање

Са побољшањем животног стандарда људи и континуираним развојем науке и технологије, људи имају све веће захтеве за перформансама производа за декоративне премазе отпорне на хабање, корозију и високе температуре.Наравно, премаз може да улепша и боју ових предмета.Затим, која је разлика између третмана мете за галванизацију и мете за распршивање?Нека вам то објасне стручњаци из Технолошког одељења РСМ-а.

　　Галванска мета

Принцип галванизације је у складу са принципом електролитичке рафинације бакра.Приликом галванизације, електролит који садржи металне јоне слоја облагања се генерално користи за припрему раствора за облагање;Потапање металног производа који се наноси у раствор за облагање и повезивање са негативном електродом ДЦ напајања као катодом;Обложени метал се користи као анода и повезан са позитивном електродом ДЦ напајања.Када се примени једносмерна струја ниског напона, метал аноде се раствара у раствору и постаје катјон и креће се ка катоди.Ови јони добијају електроне на катоди и редукују се у метал, који је прекривен металним производима који се облажу.

　　Спуттеринг Таргет

Принцип је углавном коришћење сјајног пражњења за бомбардовање јона аргона на површину мете, а атоми мете се избацују и таложе на површину супстрата да би се формирао танак филм.Особине и уједначеност распршених филмова су боље од оних на паре депонованих филмова, али је брзина таложења много спорија него код филмова нанесених паром.Нова опрема за распршивање скоро користи јаке магнете за спиралне електроне како би убрзала јонизацију аргона око мете, што повећава вероватноћу судара између мете и јона аргона и побољшава брзину распршивања.Већина фолија за металну превлаку је ДЦ распршивање, док непроводни керамички магнетни материјали су РФ АЦ распршивање.Основни принцип је коришћење сјајног пражњења у вакууму за бомбардовање површине мете јонима аргона.Катиони у плазми ће убрзати да појуре на површину негативне електроде као распршени материјал.Ово бомбардовање ће учинити да циљни материјал излети и таложи се на подлогу да би се формирао танак филм.

　　Критеријуми избора циљних материјала

(1) Мета треба да има добру механичку чврстоћу и хемијску стабилност након формирања филма;

(2) Филмски материјал за реактивни филм за распршивање мора бити лак за формирање сложеног филма са реакционим гасом;

(3) Мета и подлога морају бити чврсто спојени, у супротном се усваја филмски материјал са добром силом везивања са подлогом и прво се распршује доњи филм, а затим се припрема потребан слој филма;

(4) Под претпоставком испуњавања захтева за перформансе филма, што је мања разлика између коефицијента топлотног ширења мете и подлоге, то боље, како би се смањио утицај топлотног напрезања распршеног филма;

(5) У складу са захтевима примене и перформанси филма, коришћена мета мора да испуњава техничке захтеве чистоће, садржаја нечистоћа, униформности компоненти, тачности обраде итд.