Тунгстен Силициде

Волфрам силицид ВСи2 се користи као материјал за електрични удар у микроелектроници, ранжирању на полисилицијумским жицама, антиоксидационом премазу и отпорном премазу жице.Волфрам силицид се користи као контактни материјал у микроелектроници, са отпорношћу од 60-80μΩцм.Формира се на 1000°Ц.Обично се користи као шант за полисиликонске водове како би се повећала његова проводљивост и брзина сигнала.Слој волфрам силицида може се припремити хемијским таложењем паре, као што је таложење паре.Користите моносилан или дихлоросилан и волфрам хексафлуорид као гас сировине.Депоновани филм је нестехиометријски и захтева жарење да би се трансформисао у проводљивији стехиометријски облик.

Волфрам силицид може заменити ранији волфрамов филм.Волфрам силицид се такође користи као заштитни слој између силицијума и других метала.

Волфрам силицид је такође веома вредан у микроелектромеханичким системима, међу којима се волфрам силицид углавном користи као танак филм за производњу микро кола.У ту сврху, фолија од волфрамовог силицида се може нагризати плазмом коришћењем, на пример, силицида.

Рицх Специал Материалс је специјализован за производњу мета за распршивање и могао би да производи материјале за распршивање волфрам силицида према спецификацијама купаца.За више информација, контактирајте нас.